Silisiumnitrid-keramikksubstratet har en rekke fordeler, som høy styrke, høy seihet og eksepsjonell termisk ledningsevne (130W/(m-k)). Videre matcher dens termiske ekspan-sjonskoeffisient tett den til Si-, SiC- og GaN-halvledere. Derfor er silisiumnitrid-keramikksubstratet et ideelt valg for emballasje av høyytelsesmoduler, noe som gjør det bredt ansett som det mest egnede keramiske substratet.
Vårt selskap benytter direkte nitreringsprosess for å produsere høyrent silisiumpulver. Gjennom vår unike patenterte teknologi kontrollerer vi silisiummaterialet, nitreringsprosessen og raffineringsprosessen for å fremstille CF-HJ silisiumnitridpulver med høy renhet, høyt A-faseinnhold, smal partikkelstørrelsesfordeling og eksepsjonell sintringsaktivitet. Denne typen silisiumnitridpulver har effektivt avsluttet utenlandske monopoler og kan fungere som en fullt levedyktig erstatning for importert silisiumnitridpulver av samme kvalitetsnivå.
|
Testobjekt |
Enhet |
Indeksområde |
Testutstyr eller metode |
|
α fase |
% |
≥90 |
Røntgendiffraktometer JC/T 2342-2015 |
|
Fe |
PPM |
≤200 |
Atomabsorpsjonsmetoden ISO10058-3:2008 |
|
Al |
PPM |
≤200 |
|
|
Ca |
PPM |
≤200 |
|
|
N |
% |
≥38.5 |
Kjeldahl nitrogenapparat GB/T 16555-2017 |
|
Frss Si |
% |
<0.2 |
Gassvolumetrisk methpd GB/T 16555-2017 |
|
C |
% |
≤0,10 |
Høyfrekvens infrarød karbonanalysator GB/T 16555-2017 |
|
D50 |
μm |
≤0,9 |
Laserpartikkelstørrelsesanalysator GB/T19077-2016 |
|
O |
% |
≤1.4 |
Inert gasspuls infrarød termisk ledningsevnemetode GB/T 16555-2017 |
